| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | イーヴィグループ (EV Group) |
| 型番 | EVG6200TBN |
| 設備名称 | UVナノインプリント装置 (UV-based Nanoimprint Lithography) |
| 装置スペック | 光硬化性ポリマーやフォトレジストにナノ・マイクロレベルの構造を形成する光インプリントリソグラフィー装置。 ・LED光源:365nm、405nm、436nm ・最大基板サイズ:6インチΦ(不定形対応) ・アライメント:±3.0μm |
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