| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | (株)エリオニクス (ELIONIX INC.) |
| 型番 | EIS-1200 |
| 設備名称 | 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置 (Electron Cyclotron Resonance Ion Shower ) |
| 装置スペック | ECRプラズマを用いた異方性ドライエッチング装置。(ナノインプリントモールド作成用途に最適) ・基板サイズ:Φ2.5、Φ6、□75×7mm ・加速電圧Vac:30~3,000V ・ビーム電流密度:>1.0mA/cm2@Vac 1,000V/ArまたはO2 ・ビーム径:Φ108mm@Vac 700V/ArまたはO2/0,4~0.6mA/cm2 ・用途:Si、磁性体 ほか ・ロードロック機構 |
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