| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | (株)エリオニクス (ELIONIX INC.) |
| 型番 | ELS-F125HS |
| 設備名称 | 高速高精度電子ビーム描画装置 (Ultra-High Precision Electron Beam Lithography) |
| 装置スペック | 加速電圧125kVを採用した電子線描画装置。最小ビーム径をΦ1.7nmにすることにより最小加工線幅5nmが可能。 ・加速電圧:125kV、100kV、75kV、50kV、25kV ・最小ビーム径:1.7nm@125kV ・描画最小線幅:5nm@125kV |
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