| 設置機関 | 東京工業大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | GenISys |
| 型番 | Beamer |
| 設備名称 | 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア (Electron beam exposure ) |
| 装置スペック | JEOL01,51,52などの日本電子製電子ビーム露光用パターンデータファイルが入出力可能。 各露光基板形状に基づいたモンテカルロシミュレーションによって点拡がり関数(PSF)を導出でき、得られたPSFに基づく近接効果補正が可能。 |
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