集束イオン／電子ビーム 複合ビーム加工観察装置 (Focused Ion Beam System)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東京大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | 顕微鏡 > 試料加工装置 |
| 製造元 | 日本電子株式会社 (JEOL Ltd.) |
| 型番 | JIB-4600F |
| 設備名称 | 集束イオン／電子ビーム 複合ビーム加工観察装置 (Focused Ion Beam System) |
| 装置スペック | □ 特長 ・ 高分解能 FE-SEM を搭載し、ピンポイントでの断面作製が可能 ・ 高分解能 SEM で FIB 加工状況をリアルタイムにモニタ可能 ・ インレンズサーマル電子銃を搭載し、最大 200nA の大電流による安定した高速分析が可能 □ 主な仕様 FIB（収束イオンビーム） ・ イオン源：Ga液体金属イオン源 ・ 加速電圧：1～30kV ・ 倍率：×30（視野探し）、×100～×300,000 ・ イオンビーム加工形状：矩形、ライン、スポット SEM（電子ビーム） ・ 加速電圧：0.2～30kV ・ 倍率：×20～×1,000,000 ・ 像分解能：1.2nm（加速電圧30kV）、3.0nm（加速電圧1kV） |
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