エックス線光電子分光分析装置(XPS) (X-ray Photoelectron Spectroscopy Analysis System (XPS))
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 産業技術総合研究所 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | 表面分析 > XPS |
| 製造元 | 島津製作所 (SHIMADZU) |
| 型番 | KRATOS ANALYTICAL |
| 設備名称 | エックス線光電子分光分析装置(XPS) (X-ray Photoelectron Spectroscopy Analysis System (XPS)) |
| 装置スペック | ・型式:KRATOS ANALYTICAL ・試料サイズ: 100 mmφ、, 高さ10mm （専用ホルダ使用で約20mm迄可） ・X線源:Rowland 円直径 500mm モノクロメータ付Al Kα （1486.6 eV） ・光電子分光器:軌道半径165mm 静電二重半球型アナライザー/球面鏡アナライザー複合型 ・検出器:ディレイラインディテクター（DLD）システム ・スペクトル分析:100チャネル同時計測 ・イメージング:256×256画素（最大分解能3μm） ・最小スペクトル分析面積:15μmΦ ・エネルギ分解能:0.48 eV以下（Ag 3d5/2光電子ピーク半値幅） ・帯電中和 均一低エネルギー電子照射 ・光電子取り出し角度:垂直（標準）、0～90°（傾斜観察ホルダ使用） * 傾斜観察時は試料サイズの制限があります。 ・エッチングイオン銃:Ar＋、多原子（コロネンC24H12 ）イオン ・搭載オプション:He紫外線光源（UPS用 21.2, 40.2 eV） |
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